全新Striker® FE增强版原子层沉积平台可解决3D NAND、DRAM和逻辑芯片制造商面临的挑战

上海——近日，全球半导体产业创新晶圆制造设备及服务主要供应商泛林集团 (Nasdaq: LRCX) 宣布推出一款全新的工艺方案——先进的Striker® FE平台——用于制造高深宽比的芯片架构。Striker FE平台采用了业界首创的ICEFill™技术，以填充新节点下3D NAND、DRAM和逻辑存储器的极端结构。不仅如此，该系统还具备更低的持续运行成本和更好的技术延展性，以满足半导体产业技术路线图的发展。

半导体制造行业一直以来使用的填隙方法包括传统的化学气相沉积 (CVD)、扩散/熔炉和旋涂工艺。然而，由于这些技术需要在质量、收缩率和填充率之间权衡取舍，因此已无法满足当前3D NAND的生产要求。相比之下，泛林集团的Striker ICEFill采用其独有的表面改性技术，可以实现高选择性自下而上及无缝的填隙，并保持原子层沉积 (ALD) 固有的成膜质量。 ICEFill技术能够解决3D NAND器件普遍存在的高深宽比填隙面临的限制，避免DRAM和逻辑器件结构倒塌的问题。

泛林集团高级副总裁兼沉积产品事业部总经理Sesha Varadarajan表示：“我们致力于为客户提供好的ALD技术。在单一工艺系统中，这项技术不仅能够以优异的填隙性能生产高质量氧化膜，还整合了泛林集团行业的四位一体的模块架构带来的生产率优势。”

Striker FE平台的ICEFill技术属于泛林集团Striker ALD产品系列，欲了解该系列产品的更多信息，请访问产品页面。

关于泛林集团

泛林集团（纳斯达克股票代码：LRCX）是全球半导体产业创新晶圆制造设备及服务主要供应商。作为全球半导体公司可信赖的合作伙伴，我们结合了卓越的系统工程能力、技术领导力，以及帮助客户成功的坚定承诺，通过提高器件性能来加速半导体产业的创新。事实上，当今市场上几乎每一颗先进的芯片都使用了泛林集团的技术。泛林集团是一家财富500强公司，总部位于美国加利福尼亚州弗里蒙特市，业务遍及世界各地。欲了解更多信息，请访问：www.lamresearch.com (LRCX-P)。