近日，美国商务部工业安全局(BIS)发布了一项最终规则，为BIS的《出口管理条例》(EAR)商务管部管制清单(CCL)添加了六种最近开发或开发中的技术。美国商务部在官网发文表示，此举是为了支持关键及新兴技术这一国家战略。

商务部长威尔伯·罗斯(WilburRoss)称，“关键技术和新兴技术国家战略是保护美国国家安全，确保美国在军事、情报和经济事务中保持技术地位的重要战略部署。美国商务部已经对30多种新兴技术的出口实施了管控，我们将继续评估和确定未来还有哪些技术需要管控。”

据悉，目前列在商业管制清单上的六项新兴技术具体为以下几项：

1.混合增材制造/计算机数控工具

2.用于制造极紫外线掩模的计算光刻技术软件

3.用于为5nm生产精加工芯片的技术

4.规避计算机上身份验证或授权控制并提取原始数据的数字取证分析工具

5.用于监视和分析通过转接接口从电信服务供应商处获取的通信及元数据的软件

6.亚轨道航天器

芯片相关技术首当其冲

不难发现，美国实施出口管制的六大技术中，芯片相关技术首当其冲，包括“用于制造极紫外线掩模的计算光刻技术软件”、“用于为5nm生产精加工芯片的技术”两项。

具体来看，美国出口管制的两大芯片技术都与芯片制造中重要的设备光刻机息息相关，尤其是当下5nm芯片已成为高端芯片时代的主流产品，EUV光刻机的重要性可想而知。

全球能生产5nm-2nm制程工艺的EUV光刻机只有荷兰ASML，虽为荷兰公司，但前两大股东却是美国资本，分别是资本国际集团(15.2%)和贝莱德集团(6.52%)，且光刻机中大功率光源和控制软件用到了大量的美国技术，EUV光刻机通过荷兰进口，基本没有可能。

最近ASML首席财务官表示，能够实现45nm-7nm工艺的DUV光刻机国内采购商可以直接购买，不受美国禁令的约束，但先进的EUV光刻机并未提及，仍然受到禁令的约束，随着5nm芯片成为高端芯片时代的主流产品，EUV光刻机在芯片制程的重要意义可想而知。

当然，现在国内的芯片工艺节点正从14nm向7nm进发，短期还用不到EUV，但在未来必然会受到约束，而国产光刻机先进的是上海微电子的90nm工艺，有消息说今年年底将推出28nm光刻机，但这只是猜测，目前所遇到的问题是，当芯片工艺向5nm进发的时候，国产光刻机能不能跟上的问题。

2002年处于芯片制造技术前列的公司约有25家，到目前只有台积电、三星和英特尔三家，而英特尔发展并不顺利，未来芯片制造能力很大程度上取决于台积电和三星，但两者都依赖于美国技术。

目前我们需要先进的芯片，以释放5G、人工智能和量子计算的无限潜力，但缺乏芯片制造能力，又面临技术、设备的封锁，如果没有高端芯片，就会成为经济发展的瓶颈。

限制出口，损人不利己

虽然打着“保护本国关键及新兴技术”的旗号，美国的出口限制措施实际上却对多方产生了不利影响。除了需要遵守出口管制法规的对象以外，任何美国企业只要设计、测试、制造、开发、生产或制造任何新管制的产品，并接受外国投资，都必须向美国外国投资委员会(CFIUS)提交强制性备案，如果未提交强制性备案，可能会受到重罚。

这项管制措施的出台也对美国自身的经济和技术发展也产生了重大影响，据美国信息技术与创新基金会公布的一份资料显示，该技术出口管制法案一些限制性的措施可能会严重阻碍美国先进技术产业的竞争力，并限制它们的产出、出口和阻碍就业增长。

就如同此前华为收到美国制裁禁令期间，不少美国芯片厂商集体请求恢复对华为的合作，严苛的管制和审查不仅没有让美国“强大”起来，甚至招来不少反对的呼声。