晶圆代工大厂包括台积电、英特尔、三星等公司在2017年陆续将制程进入10奈米阶段，而且准备在2018年进入7奈米制程试产，甚至2020年还将要推出5奈米制程技术。因此，随着制程技术的提升，半导体制程也越来越逼近极限，制造难度也越来越大。就以5奈米之后的制程来说，到目前为止都没有明确的结论。对此，美国布鲁克海文国家实验室（BrookhavenNationalLaboratory，简称BNL）研究人员日前宣布，开发出可以达成1奈米制程的相关技术与设备。

根据外电报导，美国能源部旗下的布鲁克海文国家实验室研究人员，日前宣布成功采用电子束印刷技术，成功制造了尺寸只有1奈米的印刷设备。据了解，这个实验室的研究人员采用电子显微镜，制造出比普通电子束印刷（EBL）技术能做出的更小尺寸。这使电子敏感性材料在聚焦电子束的作用下，尺寸得以大大缩小，达到可操纵单个原子的程度。而这项技术与设备的诞生，则可极大的改变材料特性，从导电变成光传输，或这两种状态下交互执行。

就目前发表的内容观察，1奈米印刷使用的是扫描投射电子显微镜（STEM），隔开11奈米，这样一来每平方公厘就能实现1兆个特征点（features）的密度。再透过偏差修正STEM在5奈米半栅极在氢氧硅酸盐类抗蚀剂下，实现2奈米的分辨率。

虽然，这也不是科学家第一次达到1奈米级别的技术，2016年美国能源部下属的另一个国家实验室也宣布发展出1奈米制程技术。这部分使用的是奈米碳管和二硫化钼等新材料。不过，不管是哪一边开发出的新技术与设备，就目前观察，这项技术都不会很快量产。因为奈米碳管晶体管跟PMMA、电子束光刻一样，跟目前的半导体制程技术有明显差异。因此，要让厂商一下子全部淘汰现有设备，这还需要一段时间布局。​​​​