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GloFo有望在芯片工艺节点技术上首次领先英特尔

2017-12-19 15:19 来源:solidot 作者:

在半导体行业会议IEDM2017上,英特尔介绍了它的10纳米工艺节点技术,而GloFo介绍了它的7纳米工艺节点技术。GloFo的新技术是与IBM和三星联合开发的。英特尔的10纳米芯片投产时间已经多次延期,新估计的时间是2018年下半年甚至2019年初。

英特尔此前是每两年升级工艺节点技术,它是在2014年推出14纳米芯片,10纳米芯片原计划是在2016年投产,但由于技术相关的问题更新新一代工艺节点花费了芯片巨人超过4年的时间。相比之下GloFo预计在2018年下半年投产7纳米芯片。对于半导体行业来说,这将是英特尔的工艺优消失。目前还很难判断英特尔的10纳米芯片与GloFo的7纳米芯片之间的性能优劣。GloFo被认为更注重移动领域,但它的7纳米工艺节点技术有一个版本叫LP(leading performance)针对的是高性能计算。

GloFo有望在芯片工艺节点技术上首次领先英特尔

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