7nm制程
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EUV微影前进7nm制程，5nm仍存在挑战
EUV微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。不过，根据日前在美国加州举办的ISS2018上所发布的分析显示，实现5nm芯片所需的光阻剂仍存在挑战。[详细]
2018-01-24 11:59 分类：行业芯闻 7nm制程推进有速 EDA业者快步跟上
随着一线晶圆代工业者的7奈米制程即将陆续进入试产、量产阶段，电子设计自动化（EDA）也快速跟上，针对7奈米及12奈米制程提供各种对应解决方案。EDA业者明导国际（Mentor Graphics）宣布，该公司的Calibre设计工具平[详细]
2017-03-24 10:14 分类：润和软件
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