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7nm制程

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  • EUV微影前进7nm制程,5nm仍存在挑战

    EUV微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。不过,根据日前在美国加州举办的ISS2018上所发布的分析显示,实现5nm芯片所需的光阻剂仍存在挑战。[详细]

    2018-01-24 11:59 分类:行业芯闻
  • 7nm制程推进有速 EDA业者快步跟上

    随着一线晶圆代工业者的7奈米制程即将陆续进入试产、量产阶段,电子设计自动化(EDA)也快速跟上,针对7奈米及12奈米制程提供各种对应解决方案。EDA业者明导国际(Mentor Graphics)宣布,该公司的Calibre设计工具平[详细]

    2017-03-24 10:14 分类:润和软件

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