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EUV微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。不过,根据日前在美国加州举办的ISS2018上所发布的分析显示,实现5nm芯片所需的光阻剂仍存在挑战。[详细]
晶圆代工龙头台积电今(8)日董事会通过,核准955.54亿元的资本预算案,其中包含159.98亿元兴建厂房,以及795.56亿元用做扩充与升级设备产能等的资本预算。[详细]
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