EUV
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三星7nm EUV工厂破土动工:新骁龙将在这里诞生
2月23日消息,三星在官网宣布,投资60亿美元(约合人民币380亿)在韩国华城(Hwaseong)兴建新的半导体工厂,用于扩充7nmEUV的产能。[详细]
2018-02-24 10:44 分类:滚动新闻 -
EUV微影前进7nm制程,5nm仍存在挑战
EUV微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。不过,根据日前在美国加州举办的ISS2018上所发布的分析显示,实现5nm芯片所需的光阻剂仍存在挑战。[详细]
2018-01-24 11:59 分类:行业芯闻 -
4纳米大战 三星抢先用EUV、拥抱GAAFET
晶圆代工之战,7纳米制程预料由台积电胜出,4纳米之战仍在激烈厮杀。外媒称,三星电子抢先使用极紫外光(EUV)微影设备,又投入研发能取代“鳍式场效电晶体”(FinFET)的新技术,目前看来似乎较占上风。[详细]
2017-12-01 11:40 分类:行业芯闻 -
EUV被视为晶圆制造救世主 然技术瓶颈仍难克服
根据SemiconductorEngineering报导,EUV微影技术被视为晶圆制造产业的“救世主”,多家业者均希望靠该技术有效突破线宽瓶颈。不过专家表示,EUV技术发展进度不一,且目前仍有无法克服的限制,包括镜片的可替换性,以[详细]
2017-10-20 14:29 分类:行业芯闻 -
7nm EUV禁运怎么办?中国半导体要“有所为有所不为”
近日看了一文《7nm大战在即买不到EUV光刻机的大陆厂商怎么办?》。 受“瓦圣纳条约“的限止,今天中国即便有钱想买EUV光刻机也不可能,此话是事实,不是危言耸听。但是也不必担心,因为只有工艺制程达到7纳米及以下时[详细]
2017-09-01 15:30 分类:行业芯闻 -
抢进EUV商机 科磊推出全新光罩检测设备
随着EUV微影技术即将被引进芯片量产制程,美商科磊公司(KLA-Tencor)宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩检测产品线,FlashScan系统可以检查针对光学或极紫外(EUV)微影的空白光罩。[详细]
2017-08-30 08:52 分类:行业芯闻 -
抢吃EUV商机 台积大联盟成军了
为对抗三星,台积电计划导入极紫外光(EUV)微影设备,决定在7纳米强化版提供客户设计、并在5纳米全数导入。这项决定引发群聚效应,激励相关设备供应链和材料厂全数动起来,抢进「台积大联盟」,以分到市场。[详细]
2017-08-25 08:49 分类:行业芯闻 -
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ASML推进EUV 影响整个半导体设备行业
据相关机构统计,整个2016年,ASML销售了139台光刻机。在半导体设备行业的市场份额在58%左右,其他的对手包括尼康,佳能等。[详细]
2017-04-06 17:34 分类:滚动新闻 ASML公布2016年Q4财报:净利优于预期
2016年宣布并购中国台湾地区最大半导体设备商汉微科的欧洲最大半导体企业艾司摩尔(ASML)于日前公布2016年第4季的财报。根据财报显示,ASML于2016年第4季营收为19.1亿欧元,较2015年同期成长33%,连续第4年营收成长[详细]
2017-01-22 08:59 分类:行业芯闻