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GAAFET

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  • 4纳米大战 三星抢先用EUV、拥抱GAAFET

    晶圆代工之战,7纳米制程预料由台积电胜出,4纳米之战仍在激烈厮杀。外媒称,三星电子抢先使用极紫外光(EUV)微影设备,又投入研发能取代“鳍式场效电晶体”(FinFET)的新技术,目前看来似乎较占上风。[详细]

    2017-12-01 11:40 分类:行业芯闻

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