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光刻设备

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  • 我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机

    近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术,结合光敏玻璃材料,实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工,[详细]

    2017-04-17 08:54 分类:行业芯闻

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