摩尔
0
-
摩尔定律在7nm以下的挑战和解决办法
7纳米制程节点将是半导体厂推进摩尔定律（Moore’sLaw）的下一重要关卡。半导体进入7纳米节点后，制程将面临更严峻的挑战，不仅要克服晶圆刻蚀方面、热、静电放电和电磁干扰等物理效应，同时要让信号通过狭小的线也需[详细]
2017-09-15 19:26 分类：行业芯闻 -
国内首条8英寸“超越摩尔”研发中试线启动
9月10日上午，国内首条、全球领先、兼容CMOS的8英寸“超越摩尔”研发中试线在上海嘉定正式启动。由上海微技术工业研究院构建的这条有望影响中国半导体产业发展的中试线，旨在打造中国完整的“超越摩尔”产业链基础上[详细]
2017-09-11 14:38 分类：行业芯闻
慧聪电子网微信公众号
慧聪电子网微信视频号
